Hafnium Silicide (HfSi2)yn silicid metel trosiannol, yn fath o cyfansawdd anhydrin rhyngfetelaidd. Oherwydd ei briodweddau ffisegol a chemegol unigryw, fe'i defnyddir mewn cermets, haenau gwrthsefyll ocsideiddio tymheredd uchel, deunyddiau strwythurol tymheredd uchel a hedfan, awyrofod, a meysydd eraill. Er mwyn atal ocsidiad, gwella ymwrthedd erydiad y matrics a gwneud iawn am y diffygion ar ôl abladiad, gellir defnyddio HfSi2 fel ffynhonnell Hf ar gyfer synthesis HfC yn y fan a'r lle.
Mae Hafnium Silicide HfSi2 Nanopopwder yn ei ddefnyddio
Lled-ddargludydd: Defnyddir mewn dyfeisiau CMOS i wella perfformiad mewn cymwysiadau pŵer uchel ac amledd uchel.
Haenau: Defnyddir HfSi2 mewn ffilmiau tenau ar gyfer electroneg i wella gwydnwch ac ymarferoldeb.
Cydrannau Strwythurol: Mewn diwydiannau fel awyrofod, mae'n helpu i greu cydrannau a all wrthsefyll tymheredd uchel.
Gwresogi Trydanol: Mae ei ddargludedd thermol uchel yn ei gwneud yn addas ar gyfer elfennau gwresogi mewn cymwysiadau diwydiannol.
Deunyddiau thermodrydanol: Gellir defnyddio HfSi2 i wella effeithlonrwydd ynni systemau thermodrydanol.
Solar: Gellir ei ddefnyddio hefyd mewn systemau ffotofoltäig i wella effeithlonrwydd.
Catalysis: Mae gan HfSi2 briodweddau sy'n cefnogi prosesau cemegol catalytig.